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曲线 OPC 和下一代光掩模优化
发布于 · 本站收录 2026-11-11 00:50
基于矢量的半导体制造方法 Sagar Saxena 是西门子 EDA Curvilinear OPC 的高级产品工程师，转变了先进的半导体制造现代半导体制造正在经历光掩模创建和优化方式的根本转变。
英文原文标题与摘要
Curvilinear OPC and next-gen photomask optimization
A vector-based approach for semiconductor manufacturing By Sagar Saxena is a Senior Product Engineer at Siemens EDA Curvilinear OPC transforms advanced semiconductor manufacturing Modern semiconductor manufacturing is experiencing a fundamental shift in the way photomasks are created and optimized. As the industry pushes… Read More
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