芯片半导体 · Semiconductor Engineering
优化的电子束蒸发减少金属-半导体接触退化 (RWTH Aachen)
发布于 · 本站收录 2026-11-12 08:02
亚琛工业大学的研究人员发表了“通过优化电子束蒸发减轻金属-半导体接触的退化”。摘要“提出了一种优化的电子束蒸发 (EBE) 设置，可以抑制 4” 半导体的带电粒子轰击。
英文原文标题与摘要
Optimized E-Beam Evaporation Reduces Metal-Semiconductor Contact Degradation (RWTH Aachen)
Researchers at RWTH Aachen University published “Mitigating the degradation of metal–semiconductor contacts with optimized electron beam evaporation.” Abstract “An optimized electron beam evaporation (EBE) setup is presented that allows the suppression of charged particle bombardment of 4” semiconductor samples during metal coating.
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